#创作挑战赛五期#国产光刻机能否突破28nm技术，成为半导体产业新焦点？
近日，国产光刻机技术传来振奋人心的消息！工业和信息化部于9月9日正式发布的首台套重大技术装备推广应用指导目录中，赫然列入了国产氟化氪和氟化氩光刻机，标志着我国在光刻机这一芯片制造核心设备上取得了重大技术突破。这些光刻机不仅在技术上实现了飞跃，氟化氩光刻机分辨率更是达到了≤65nm、套刻≤8nm的先进水平，而氟化氪光刻机也紧随其后，分辨率≤110nm、套刻≤25nm。尤为值得关注的是，在28nm这一芯片中低端和中高端的分界线上，国内产线已有望实现完全自主可控，这一里程碑式的突破，不仅为国产半导体产业注入了强大动力，更预示着中国在全球半导体领域的地位正稳步上升。这一成就，是科研人员多年辛勤努力的结晶，也是我国科技自立自强战略的重要成果。
国产光刻机的突破，是中国半导体产业迈向新台阶的坚实步伐。让我们共同期待，国产光刻机在未来的发展中创造更多辉煌！感谢观看，我们下期再见！